CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。 產(chǎn)品性能穩定，操作簡(jiǎn)單方便，易維護。

應用領(lǐng)域：

等離子清洗設備廣泛應用于材料學(xué)、微電子、半導體、線(xiàn) 路板、LED、微流控、光電太陽(yáng)能、生物醫學(xué)等領(lǐng)域，主要用 于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的。

 產(chǎn)品特點(diǎn)：

◆  7 寸彩色觸摸屏中英文互動(dòng)操作界面，自動(dòng)控制監測工藝參數狀態(tài)，20 個(gè)配方程序，工藝數據可存儲追溯。

◆  PLC 控制整個(gè)清洗過(guò)程，手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。

◆  用美國德威爾（Dwyer）氣體浮子流量計或質(zhì)量流量計  (CPC-FM)，可輸入氧氣、氬氣、氮氣、氫氣或混合氣等氣體，氣體控制準確。

◆  氣體返填吹掃，HEPA 高效過(guò)濾，防止二次污染。

◆  316 不銹鋼、石英真空艙可選擇，全真空管路系統采用316 不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無(wú)污染。

◆  采用 60 度傾角操作面板設計，符合人體功能學(xué)，操作方 便，界面友好。

◆  上控制下艙體結構設計，結構緊湊，占地空間小。

◆  內凹式前面板設計，有效保護流量計和艙門(mén)不易損壞。

◆  處理快速高效均勻，無(wú)污染，工藝重復性好。

◆  樣品處理溫度低，無(wú)熱損傷和熱氧化。

◆  安全保護，艙門(mén)打開(kāi)，自動(dòng)關(guān)閉電源。

技術(shù)參數